化學蒸鍍意思
化學蒸鍍（Chemical Vapor Deposition, CVD）是一種材料沉積技術，用於在固體表面沉積一層物質。在這個過程中，氣態的預先合成化合物（預氣體）在基底表面發生化學反應，形成固態沉積物。這種技術可以用來製造各種薄膜，包括半導體材料、陶瓷和金屬等。
化學蒸鍍的過程通常包括以下幾個步驟：
- 預氣體引入：將預氣體引入到真空腔體中。
- 加熱：通過加熱腔體或基底，促使預氣體發生化學反應。
- 沉積：反應後的產物沉積在冷卻的基底表面，形成固態薄膜。
- 後處理：沉積後，對薄膜進行後處理，如退火或冷卻。
化學蒸鍍有許多優點，例如可以控制薄膜的厚度、組成和結構，適用於多種材料，並且可以在大面積上進行沉積。這種技術被廣泛應用於半導體製造、光電器件、超硬薄膜、催化劑和感應器等領域。