光阻塗布是什麼意思

光阻塗布（Photoresist Coating）是一種用於微影技術（Photolithography）的化學塗層過程，通常應用於半導體製造、印刷電路板（PCB）製造、光學元件加工等領域。光阻塗布的主要目的是在基板上形成一層具有光敏性的薄膜，這層薄膜可以在特定波長的光線照射下發生化學反應，進而通過顯影過程定義出所需的圖案。

光阻塗布的過程通常包括以下幾個步驟：

  1. 塗布（Coating）：將光阻材料塗抹在清潔的晶圓或其他基板上。

  2. 烘烤（Bake）：將塗有光阻的基板加熱，以便光阻材料能夠更好地附著在基板上，並去除可能存在的氣泡。

  3. 曝光（Exposure）：使用紫外線（UV）光源或其他適當波長的光線，透過掩膜（Mask）將圖案投影到光阻層上。

  4. 顯影（Develop）：將曝光後的基板浸泡在特定的化學溶液中，未受光線照射的部分光阻會被溶解並洗掉，而受光線照射的部分則會保留在基板上，從而定義出所需的圖案。

  5. 後烘烤（Post-bake）：再次加熱基板，固化保留的光阻圖案，並去除可能殘留的化學物質。

  6. 蝕刻（Etching）：使用化學蝕刻或物理刻蝕方法，根據光阻圖案在基板上進行材料去除或沉積，從而形成所需的結構。

  7. 去光阻（Strip）：在蝕刻過程後，去除不再需要的部分光阻材料。

光阻塗布技術的精確度和解析度對於半導體製造來說至關重要，隨著技術的進步，目前的光阻塗布可以實現幾十納米甚至更小的圖案解析度。