光掩模意思

光掩模（Photomask）是一種用於光刻技術中的工具，它是製造積體電路（IC）、微機電系統（MEMS）、液晶顯示器（LCD）和其他微細結構的關鍵部件。光掩模是一種透光和遮光圖案的載體，通過光刻機將光掩模上的圖案投影到光敏材料（如光刻膠）上，從而在光敏材料上形成與光掩模相同的圖案。

在半導體製造過程中，光掩模通常由高透明度的玻璃基板和塗覆在其上的不透明材料（如鉻）組成。鉻層中的圖案是通過光刻和蝕刻工藝形成的，這些圖案對應於所需的電路或結構設計。在光刻過程中，光掩模被放置在光刻機和光敏材料之間，紫外光透過光掩模上的透明區域，照射到光敏材料上，從而在光敏材料上形成了一個與光掩模上的圖案相對應的圖像。

光掩模的精度和質量對於半導體製造至關重要，因為它們直接決定了晶片上電路圖案的精度和準確性。隨著技術節點的縮小，光掩模的設計和製造也變得越來越複雜，需要更高的解析度和更嚴格的幾何精度。