光刻英文是什麼意思

光刻（Photolithography）是半導體製造過程中的一種技術，用於在矽晶圓或其他材料上形成微觀圖案。這個詞是由希臘詞根「φως」（光）和「λίθος」（石頭）以及「γραφία」（寫作）組合而成的。光刻過程包括幾個步驟：

1. 光刻膠塗層：在矽晶圓上塗覆一層光刻膠。
2. 曝光：使用紫外線（UV）光通過一個帶有微觀圖案的掩膜對光刻膠進行曝光。
3. 顯影：將晶圓浸泡在化學溶液中，未曝光的部分被溶解，而曝光的部分則保留在晶圓上。
4. 蝕刻：使用化學物質或離子束蝕刻晶圓，去除未被光刻膠保護的部分。
5. 去膠：最後，去除晶圓上的光刻膠，露出經過蝕刻的結構。

光刻技術是製造集成電路（IC）和微機電系統（MEMS）的關鍵步驟，它決定了晶圓上可實現的最小特徵尺寸，因此對於半導體工藝的進步至關重要。隨著技術的發展，光刻機的解析度不斷提高，使得晶圓上可以刻畫出更小的特徵，從而實現更高密度的集成電路。