Pecvd是什麼意思

PECVD 是 "Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition" 的縮寫，是一種用於在半導體製造和其他材料科學領域的技術。這種技術用於在固體表面沉積非常薄的固體層，通常是一種非導電的氧化物、氮化物或碳化物。

在 PECVD 過程中，氣態前體物質在電漿體的作用下被激活，電漿體是由高能帶電粒子（如電子）和激發的中性粒子組成的氣體。這種激活導致了化學反應，從而形成了所需的固體層。PECVD 與其他沉積技術（如常壓CVD或低壓CVD）的不同之處在於它使用電漿體來提高反應速率，從而在較低的溫度下進行沉積。

PECVD 技術廣泛用於製造各種薄膜，包括用於太陽能電池的氮化鎵（GaN）、用於半導體器件中的介電層和用於光學元件的抗反射層。