5nm製程工藝是什麼意思

5nm製程工藝（5 nanometer process technology）是指半導體製造中使用的極紫外光（EUV）光刻技術，它能夠在矽晶圓上刻畫出小至5納米寬度的電晶體。這個數字代表的是電晶體源極和漏極之間的距離，也就是電晶體的 Gate length（門長）。

製程工藝的數字越小，代表晶片上的電晶體尺寸越小，單位面積內可以容納的電晶體數量就越多，晶片的性能也會更高，功耗則會更低。5nm製程相較於前一代7nm製程，可以在同樣的面積上容納更多電晶體，從而提高晶片性能，降低功耗。

目前，5nm製程工藝已經被應用在高端智慧型手機的應用處理器中，如Apple的A14 Bionic、高通的Snapdragon 888和華為的麒麟9000等晶片。隨著技術的進步，製程工藝還在不斷縮小，如3nm、2nm甚至更小的1nm製程工藝也正在研發中，這些技術將進一步推動半導體產業的發展。