靶材意思

靶材（Target Material）通常是指在物理氣相沉積（PVD）工藝中使用的材料，這種工藝用於在半導體製造、光學、磁性存儲介質、工具塗層和裝飾塗層等領域中沉積薄膜。靶材是高純度的金屬、合金或化合物，被放置在真空腔體中，通過高能電子束、雷射或電流使其蒸發或濺射，從而沉積到基底材料上形成所需的薄膜。

靶材的種類很多，根據所需薄膜的性質，可以選擇不同的靶材材料。例如，在半導體製造中，靶材可能包括銅、鈦、鋁、鎢、 tantalum（鉭）、tantalum nitride（氮化鉭）、tungsten silicide（矽化鎢）等。在光學套用中，靶材可能包括矽、鋯、鈦、鈮等。在磁性存儲介質中，靶材可能包括鐵、鈷、鎳及其合金。

靶材的純度、晶格結構、表面粗糙度等特性都會影響最終沉積薄膜的質量和性能。因此，靶材的質量和一致性對於確保薄膜的性能至關重要。