兩奈米製程是什麼意思

"兩奈米製程"這個詞彙通常出現在半導體製造領域，特別是針對積體電路（Integrated Circuits, ICs）的製造過程中。奈米（nm）是長度的單位，1 奈米等於十億分之一米（10^-9 米）。因此，兩奈米製程指的是晶片製造過程中，線寬（線條之間的距離）或者特徵尺寸（feature size）可以精確到2奈米。

在半導體製造中，製程節點（process node）是指晶片上電晶體開關門檻電壓的倒數，它決定了電晶體的大小和集成度。隨著製程節點的縮小，電晶體的尺寸可以做得更小，晶片上可以容納的電晶體數量就會更多，從而使得晶片更加高效、功耗更低。

然而，隨著製程節點的縮小，製造難度會大大增加，因為需要更高的精確度和更複雜的技術來處理更小的結構。此外，製程節點的命名並不一定代表實際的物理尺寸，而是指代一個技術世代，不同製造商對同一個製程節點可能有不同的定義。

目前（2023年），主流的商用晶片製程節點在7奈米到10奈米之間，而領先的晶圓代工廠如台積電（TSMC）和三星（Samsung）正在開發和量產5奈米和3奈米製程的晶片。因此，兩奈米製程代表了未來幾年可能實現的極限縮小技術，目前還沒有商業化的產品使用這樣的製程。