光掩模是什麼意思

光掩模（Photomask）又稱為光罩、光刻蝕模板或光刻掩模，是半導體製造過程中用來轉印電路圖案的工具。在晶圓製造過程中，光掩模被放置在晶圓和光源之間，用來控制光線的通過，從而在晶圓上的光刻膠上形成電路的圖案。

光掩模通常是由透光材料和遮光材料構成，透光材料通常為石英玻璃，而遮光材料則為不透明的鈦合金或鉻合金。在光掩模上，電路的圖案被刻蝕在遮光材料上，這樣當光線照射時，只有透光部分的光線能夠穿過，從而在晶圓上形成電路的圖案。

光掩模的精度和質量對於晶圓製造的精度和產量有著重要的影響，因此光掩模的製造需要高精度的技術和設備。在半導體製造中，不同層次的電路需要使用不同設計的光掩模，因此一個複雜的晶片可能需要多個光掩模來製造。