光刻膠意思

光刻膠（Photoresist）是一種光敏材料，用於微影技術（Photolithography）中，尤其是在半導體製造過程中。它被塗覆在晶圓表面，然後經過紫外線（UV）曝光和顯影步驟，以形成所需的微觀圖案。

光刻膠的工作原理是利用光線的選擇性固化或溶解特性。通常，光刻膠分為正性光刻膠和負性光刻膠兩種類型：

正性光刻膠（Positive Photoresist）：這種光刻膠在曝光區域會被紫外線固化，變得不易溶於顯影液。在顯影過程中，未曝光的部分會被溶解掉，而曝光的部分則保留在晶圓表面。
負性光刻膠（Negative Photoresist）：與正性光刻膠相反，負性光刻膠在曝光區域會變得易溶於顯影液。在顯影過程中，曝光的部分會被溶解掉，而未曝光的部分則保留在晶圓表面。

光刻膠的選擇和使用取決於特定的製造需求和工藝流程。它們的解析度可以達到幾十納米，甚至幾納米，這使得光刻膠成為製造集成電路（IC）、平面顯示器、光學元件和其他微細加工產品中不可或缺的材料。